弱束暗场像

弱束暗场像（Weak Beam Dark Field, WBDF）是一种在透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy, TEM）下使用的成像技术，特别适用于位错等晶体缺陷的分析。这种技术之所以能有效分析位错，原因主要有以下几点：

对比度增强：在弱束暗场成像模式下，通过使用偏离布拉格条件的小角度散射，可以显著增加位错线等缺陷的图像对比度。这是因为在弱束条件下，散射到暗场探测器的是那些经过缺陷强烈散射的束，使得缺陷周围的晶格畸变区域在图像上显得更亮，而未受影响的晶格区域则相对较暗。
分辨率提高：弱束暗场像利用的是晶体中偏离布拉格角的小角度散射，这种散射对晶体中的微小缺陷非常敏感，可以实现较高的空间分辨率。这样就能更清晰地观察到位错的细节结构，包括位错的类型、分布和相互作用等。
降低晶格衬度：在传统的暗场成像中，由于晶格衬度的影响，有时会干扰到位错等缺陷的观察。而在弱束暗场像中，由于使用了偏离布拉格角的小角度散射，晶格衬度被有效降低，从而减少了晶格本身对位错观察的干扰。
提供三维信息：通过改变样品的倾斜角度，弱束暗场成像可以提供关于位错在样品内部的三维分布信息。这有助于更全面地理解位错在材料中的行为和对材料性质的影响。